サムスン電子、台TSMCの追撃を加速…EUVライン増設

平沢にもEUVライン設置 

サムスン電子は華城事業所に続き、平沢事業場にも極紫外線(EUV)ファウンドリ(半導体受託生産)ラインを構築する。これによりファウンドリ世界1位の台湾TSMCに対する追撃に拍車をかけ、2030年のシステム半導体グローバル1位という目標に一歩近づくという計画だ。

サムスン電子は21日、今月から京畿道平沢事業所第2工場の一部をEUV超微細工程ベースのファウンドリ生産ラインとして構築する作業に着手し、2021年に量産すると発表した。

EUV露光技術は極紫外線を光源とし、半導体の原材料であるウェハに回路を刻む技術だ。既存のプロセスでは不可能な超微細回路を実装することができ、モバイルアプリケーションプロセッサ(AP)などの高性能・低消費電力の半導体を製造成するためになくてはならない技術だ。

今回の投資は李在鎔(イ・ヂェヨン)サムスン電子副会長が昨年4月に宣言した「半導体ビジョン2030」の一環だ。当時、李副会長は2030年までに133兆ウォンを投資して、システム半導体のグローバル1位に上がると述べたことがある。李副会長は平沢のファウンドリラインへの投資の報告を受けた席で、「困難な時ほど将来のための投資を停めるべきではない」とし、システム半導体1位を達成するための先制的な投資の意志を明らかにした。

TSMCは現在、世界ファウンドリー市場で圧倒的な1位を守っており、サムスン電子が継続して追撃している。サムスン電子はEUV技術の主導権を確保することにより、TSMCとのギャップを狭めていくという覚悟だ。

サムスン電子は昨年4月、業界初のEUV工程を適用した7ナノ製品の生産を開始して、超微細プロセス技術のリーダーシップに拍車をかけている。来年は5ナノベースの平沢ファウンドリラインまで稼働すると、サムスン電子の7ナノ以下の超微細工程の半導体製品の生産能力はすばやく増加する見込みだ。
  • 毎日経済_チョン・ギョンウン記者/ファン・スンミン記者 | (C) mk.co.kr
  • 入力 2020-05-21 19:33:44