SK「フッ化水素」国産化…日の対韓規制から1年で


昨年7月の日本の対韓輸出規制の後、半導体素材の国産化を強調していた崔泰源(チェ・テウォン)SKグループ会長の意志が現実化した。 SKは日本の輸出規制品目のひとつだった「高純度フッ化水素(HF)」を国産化したことに続き、高純度フォトレジスト(感光液)工場の建設も推進する。さらに素材国産化の過程で確保した力量を中小企業と共有し、国内の半導体生態系の強化に乗り出す計画だ。

SKマテリアルズは17日、昨年末に超高純度(純度99.999%)HFのプロトタイプの開発に成功した後、慶尚北道の榮州工場内に15トン規模の生産施設を建設したと明らかにした。今回の量産を土台に、2023年までに超高純度HFの国産化率を70%にまで引き上げる計画だ。

超高純度HFは半導体製造に使われるガスで、半導体回路を削り出す「エッチング」工程に使われる。サムスン電子やSKハイニックスなどの半導体メーカーは、99.999%の高純度HFをほとんど日本から輸入して使用した。ナノメートル(㎚/10億分の1メートル)レベルの半導体プロセスでは、高純度HFを使ってこそ収量と品質を確保することができるからだ。昨年7月に日本が高純度HFを対韓輸出規制品目に指定するやいなや、韓国の半導体企業は台湾と中国などから不足する量を輸入してきた。

SKマテリアルズはまた、高付加価値製品である「ハードマスク(SOC)」と「フッ化アルゴンフォトレジスト(ArF PR)」の開発にも乗り出す。 SOCはフォトレジストの補助材として、半導体回路パターンが崩れないように保護する素材だ。ArF PRはフォトレジストの一種で、これらの製品はすべて超微細パターンの形成に使われる代表的な高付加価値製品だ。フォトレジストもまた、日本の対韓輸出規制品目のひとつだった。 ArF PRは10ナノメートル級の超微細パターンに使用される高付加価値製品で、90%以上を輸入に依存している。

崔会長は昨年、日本の対韓輸出規制措置の後は非常経営に突入し、安定した素材需給と素材開発の技術力向上などを注文してきた。
  • 毎日経済_ウォン・ホソプ記者 | (C) mk.co.kr
  • 入力 2020-06-17 19:49:08