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SKハイニックス、東芝と戦略的提携… 敵から同志に
半導体微細プロセス技術の共同開発、1兆ウォン台の訴訟訴取り下げ
- SKハイニックスが東芝と提携して次世代プロセス技術として挙げられるナノインプリントリソグラフィ技術の共同開発に乗り出す。また、東芝はSKハイニックスを相手に提起した民事訴訟も取り下げることにした。
半導体DRAM世界第2位のSKハイニックスとNAND型フラッシュメモリ第2位の東芝が提携することで、世界の半導体メモリ（DRAM、NAND型フラッシュメモリ）市場に地殻変動が予想される。SKハイニックスは、日本の東芝とナノインプリントリソグラフィ（Nano Imprint Lithography・NIL）技術の共同開発に乗り出すと19日、明らかにした。
NILは半導体メモリの微細工程を実現するのに必要な次世代リソグラフィプロセス技術だ。リソグラフィは、半導体ウェハーの表面に光や電子ビームに反応する感光剤を薄く塗り、パターンを入れた後、光などを当てて写真を撮るように回路を描く技術をいう。
両社は共同開発を通じてNILの成功可能性を高め、製品の量産を通じた技術の商用化も拡大すると期待している。また、コスト競争力の向上もSKハイニックスと東芝が期待する効果だ。
SKハイニックスと東芝の間の訴訟問題も解決された。東芝は3月、SKハイニックスを相手に提起した1兆1000億ウォン規模の民事訴訟も取り下げることにした。SKハイニックスが東芝に支払うことにした和解金は2億7800万ドル（約3000億ウォン）だ。東芝は、日本の検察がSKハイニックス出身の杉田吉隆氏を不正競争防止法違反の疑いで起訴すると、SKハイニックスが東芝の情報を活用したと、民事訴訟を提起していた。
SKハイニックスと東芝は、従来の半導体特許の相互ライセンスと製品供給契約も延長することで合意した。これにより、両社は特許紛争による不確実性を緩和し、安定的な販売基盤も維持できるようになった。
両社の戦略的提携は、半導体メモリ1位のサムスン電子への挑戦という点で注目される。グローバル企業が次世代メモリとプロセス技術の開発に拍車をかけている状況で、DRAMとNAND型フラッシュメモリ世界2位の企業が手を握ったからだ。SKハイニックスは、東芝と2007年から協力関係を維持してきている。 - 毎日経済_ジョンスンファン記者 | (C) mk.co.kr | 入力 2014-12-19 20:18:03
